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【拆解專利設計】銅芯口罩無弱磁場 改用銅抗菌增清洗次數 創科局常秘:唔覺得誤導公眾


「銅芯抗疫口罩」公布當日,創科局在記者會會場,展示弱磁場可重用口罩當日獲得的日內瓦發明獎。資料圖片

標榜獲得專利和日內瓦發明獎的「銅芯抗疫口罩」(CuMask+),被傳媒揭發與專利不符。香港紡織及成衣研發中心(The Hong Kong Research Institute of Textiles and Apparel, HKRITA)承認銅芯口罩,並沒有專利中的弱磁場功能,但聲稱是專利設計的加強版,改用兩層銅物料抗菌,令清洗次數增至60次,會另外再申請知識產權。抗菌的設計物料由「弱磁場」變成「銅」,創科局常任秘書長蔡淑嫻表示「不覺得誤導公眾」。

根據「銅芯抗疫口罩」網站上載的資料顯示,HKRITA今年3月曾委託台灣紡織產業綜合研究所就口罩的過濾功能進行清洗前後的測試,顯示60次清洗後,功效或開始減退。但抗菌及抗病毒測試只在2016年及2018年做過,當時根本未有銅芯口罩,網站稱測試布料與抗疫口罩使用布料含相同活性成份氧化銅。換言之,改良後派出街的抗疫口罩,起碼今年未進行抗菌測試。HKRITA行政總裁葛儀文解釋,疫情之下實驗室不肯做抗菌測試,又或「排唔到隊」。

創新及科技局常任秘書長蔡淑嫻(右二)聯同香港紡織及成衣研發中心行政總裁葛儀文(左二)開記者會解畫。張凱傑攝

稱磁石濕水不穩定

港府周二(5日)公布向全民派發「銅芯抗疫口罩」,新上任的創科局局長薛永恒當時指出,口罩的專利設計在2017年由HKRITA開發,獲得創新及科技基金資助,更在2018年榮獲日內瓦國際發明展金獎。當日記者會更特意在會場展示日內瓦發明獎。直至周五(8日),有傳媒發現獲獎作品的獨特技術──在口罩中加入薄磁片製造出弱磁場,從而改變空氣中微粒的運動軌迹,提升過濾功能阻隔微粒,並沒有用在與政府派給市民的銅芯抗疫口罩上,有造假之嫌

創科局聯同HKRITA即日傍晚開記者會解畫,HKRITA行政總裁葛儀文指出,抗疫口罩由日內瓦獲獎作品的設計伸延出來,4個得獎元素包括弱磁場、人體工學、防菌、可洗及重用。向全民派發的銅芯口罩沒有磁石成分,經過改良後加入銅物料,會申請新的知識產權,原來的設計屬於「Background IP」,銅芯口罩是根據原來專利設計的改良版,他形容兩者關係就像「父子」,又指這幾年亦曾改良70個不同款式。他解釋,磁石濕水後會出現不穩定和減弱抗菌功能,原來的弱磁場設計只可清洗約20次,銅芯口罩可增加至60次。

抗疫口罩就是布口罩加上濾芯,分有六層,外層和抗菌層都是銅紗。照片來源:qmask.gov.hk

銅芯口罩含兩層銅紗

簡單來說,銅芯口罩就是布口罩加上濾芯,共有六層,由外到內稱為:外層、保護層、抗菌層、過濾層、保護層、內層。除了外層和內層,中間四層都是濾芯。最外層布料上一條條線和抗菌層,都是銅紗。對於坊間質疑口罩採用銅物料會否令人體有害?葛儀文指出,抗疫口罩不是採用納米銅,而是微銅粒,比納米銅大很多,人體難以吸收。

創科局常任秘書長蔡淑嫻指出,銅芯口罩有用到原來的專利設計,雖然沒有弱磁場,但外層的布由氧化銅紗和綿織成,做到抗菌作用,還可「用得耐啲」。而原來專利設計的濾芯一直也有使用銅,只是現在用得更多。「這是我的理解,人體工學還有,重點還在,從中心(HKRITA)理解,基本設計還在,不覺得誤導。」她說,如果當初有詳細解釋,就不會有誤會,強調不是要誤導公眾。

HKRITA行政總裁葛儀文指出,原有設計也有使用銅。張凱傑攝

專利文件摘要只提弱磁場

雖然創科局和HKRITA一再強調,有用到原來專利設計,不構成誤導公眾,HKRITA亦聲稱得獎元素不只弱磁場。不過,根據中國國家知識產權局及美國的專利文件顯示,相關摘要明確指出,減少吸入微生物的方法關鍵在於「在口罩的呼吸區域的周圍設置兩個或更多個磁體,所述磁體形成立體磁場,以將吸入氣體中的帶電荷的運動的微生物的軌跡改變,甚至遠離所述口罩的所述呼吸區域。」英文版文亦提及:「arranging two or more magnets around the breathing zone of the mask。」專利摘要重點提及弱磁場,未有提及人體工學、銅抗菌等內容。

HKRITA在2018年奪得日內瓦國際發明展金獎後,在新聞稿亦強調「這項研究開發獨特技術在口罩中加入弱磁場,從而提升過濾功能而不需增加空氣阻力。弱磁場可轉變自然帶電的顆粒和微生物的運動軌跡,從而增加被口罩阻隔過濾的機率。」再提及口罩具備高效抗菌功能,人體工學設計改善口罩帶來的熱濕感覺及皮膚觸感舒適性,佩戴時貼合面形,其可水洗結構和設計可以延長口罩使用。

中國國家知識產權局專利文件顯示,相關專利的摘要明確指出,減少吸入微生物的方法關鍵在於弱磁場。



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